삼성, 2030년까지 시스템반도체에 133조 투자... ‘반도체 비전 2030’ 선포
삼성, 2030년까지 시스템반도체에 133조 투자... ‘반도체 비전 2030’ 선포
  • 이예영 기자
  • 승인 2019.04.24 13:29
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30일 문재인 대통령 방문 이전 선제적 화답 메시지
화성캠퍼스 EUV 라인 전경
화성캠퍼스 EUV 라인 전경

문재인 대통령의 ‘비 메모리 육성 필요’ 발언이 나온 이후 삼성전자가 대규모 투자를 단행하겠다는 발표를 했다. 문 대통령은 이달 30일 삼성전자 반도체 사업장에 방문할 것으로 보인다. 이에 앞서 대규모 투자 발표로 방문에 화답했다는 것이 전문가 시각이다.

삼성전자는 24일 2030년까지 시스템 반도체 분야 연구개발(R&D) 및 생산시설 확충에 133조원을 투자한다고 밝혔다. 전문인력 1만5000명도 채용한다. 2030년까지 메모리 반도체 뿐만 아니라 시스템반도체 분야에서도 세계 1위에 오른다는 ‘반도체 비전 2030’의 구체 달성 계획이라고 삼성전자는 설명했다.

삼성전자는 133조원 가운데 2030년까지 국내 R&D 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 투자한다. R&D 투자로 국내 시스템반도체 R&D 인력 양성에 기여한다는 것이 삼성의 생각이다. 생산시설 확충에도 60조원이 투자돼 국내 설비, 소재 업계의 수혜가 예상된다. 삼성전자는 향후 화성캠퍼스 신규 극자외선(EUV) 생산라인을 활용해 생산량을 증대하고, 국내 신규 라인 투자도 지속 추진할 계획이다.

삼성전자의 이 같은 계획이 실행되면 2030년까지 연평균 11조원의 R&D 및 시설투자가 집행되고, 생산량이 증가함에 따라 42만명의 간접 고용유발 효과(2014년 한국은행 산업연관표 일자리 유발계수 활용 산출기준)가 발생할 것으로 예상됐다.

삼성전자는 또한 시스템 반도체 인프라와 기술력을 공유해 팹리스(Fabless, 반도체 설계 전문업체), 디자인하우스(Design House, 설계 서비스 기업) 등 국내 시스템반도체 생태계의 경쟁력을 강화하겠다는 청사진도 제시했다. 국내 중소 팹리스 고객사가 제품 경쟁력을 강화하고 개발기간을 단축할 수 있도록 자체 개발한 인터페이스 설계자산(IP), 아날로그 IP, 시큐리티 IP 등을 호혜적으로 지원한다. 자체 설계 및 불량 분석 툴 및 소프트웨어 등도 지원할 계획이다.

소품종 대량생산 체제인 메모리 반도체와 달리 다품종 소량생산이 특징인 시스템반도체 분야의 국내 중소 팹리스 업체는 지금까지 수준 높은 파운드리 서비스를 활용하는데 어려움이 있었다. 삼성전자는 이러한 어려움을 해소하기 위해 반도체 위탁생산 물량 기준도 완화해, 국내 중소 팹리스 업체의 소량제품 생산을 적극적으로 지원할 계획이다. 국내 중소 팹리스 업체의 개발활동에 필수적인 MPW(Multi-Project Wafer) 프로그램을 공정당 연 2~3회로 확대 운영한다. 삼성전자는 국내 디자인하우스 업체와의 외주협력도 확대해 나갈 계획이라고 밝혔다.


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