팔억시공, 반도체·디스플레이 핵심소재 개발에 1억위안 투자
팔억시공, 반도체·디스플레이 핵심소재 개발에 1억위안 투자
  • 디일렉
  • 승인 2020.10.23 15:31
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| 출처 : 트렌드뱅크 | 9월 23일

○팔억시공, PI·포토레지스트 개발에 1억위안 투자 
- 23일, 팔억시공(八亿时空)이 모집자금 1억위안을 투자해 자회사 상하이 팔억시공 첨단재료(가칭)을 설립해 ‘첨단재료 연구개발 프로젝트’를 추진한다고 공시했음.   
- 태블릿 디스플레이 재료 및 반도체 재료가 프로젝트의 양대 사업 분야.
- 폴리이미드(PI), 포토레지스트 등 재료의 기술 혁신 및 집중적인 연구개발을 진행할 계획.  
- 2개 연구소(6개 연구실험실), 1개 분석검사센터, 1개 공동AS기관 건설 예정. 
- 전체 실험실 및 부대시설 총 면적은 2988.89제곱미터. 
- 합성, 정제, 분석, 테스트 등 장비 반입 예정.   

○신규 프로젝트의 주요 연구 방향: PI 연구개발 플랫폼 건설 
- OLED 디스플레이 기판에 응용되는 PI 단위체, 프리폴리머 페이스트의 대량 생산기술 및 그 공정의 안정성 연구를 통한 제품 품질과 성능의 일관성 검증.
- OLED 디스플레이 생산라인의 PI 페이스트 필름 형성 공정, 내열성, 크기안정성 및 역학강도 등 특성 연구를 통한 대량생산 응용 실현.

- PI 페이스트의 필름 형성 공정 및 박막 성능의 평가 방법 수립, OLED 디스플레이 생산 중 중국산 기판 재료의 전 공정 프로세스 개발 및 대량 도입, 투명 PI(CPI)의 핵심 공정기술 개발.   
- 변성 PI(MPI) 기술 투자 및 연구 강화, 고주파수에서 PI 재료의 각 성능 지표 개선을 통한 5G 안테나 등 분야 응용.  
- 신규 프로젝트에서는 OLED 디스플레이 기판용 PI, 투명 PI, 변성 PI 기술을 심화시켜 PI 박막의 투명성을 높이고 유전율(permittivity) 및 유전손실을 낮춤으로써 신형 단위체 구조 기반의 자체 기술 시스템을 구축하고자 함.  

○포토레지스트 및 관련 수지 개발 강화
- 노광 공정은 반도체 제조공정의 핵심. 포토레지스트와 노광장비의 조합은 반도체의 성능, 수율에 결정적 작용을 함.
- 각 유형의 포토레지스트 중 반도체 포토레지스트는 품질, 순도, 불순물 함량에 대한 요구가 가장 엄격함. 
- 그 다음은 태블릿 디스플레이 포토레지스트. 태블릿 디스플레이 및 반도체 포토레지스트는 기술 장벽과 부가가치가 높아 중국은 아직 연구개발 초기단계임.
- 포토레지스트의 주요 원재료 중 가장 핵심적이고 기술적 난이도가 높으며 국산화율이 가장 낮은 것이 포토레지스트용 수지.
- 이번 프로젝트는 포토레지스트 수지 및 포토레지스트 연구개발에 초점을 맞출 계획. 
- 포토레지스트 수지는 g/i 선정성 포토레지스트용 페놀수지, 248nm용 PHS 수지를 중점적으로 개발하면서 193nm용 아크릴류 수지도 진행.
- 포토레지스트는 태블릿 디스플레이용 포토레지스트, 5G 안테나용 포토레지스트 및 반도체용 포토레지스트를 중점 개발할 계획. 



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