산업통상자원부는 반도체·디스플레이 소재 기업 동진쎄미켐이 포토레지스트 공장 증설을 확정했다고 15일 밝혔다.
증설공장이 계획대로 완공된 후 내년 초 정상가동되면 동진쎄미켐은 국내 포토레지스트 생산량을 현재보다 2배 이상 확대하게 된다. 올해 1분기 중 착공에 들어간다.
동진쎄미켐은 극자외선(EUV) 포토레지스트 바로 전 단계인 반도체용 불화아르곤(ArF) 액침 포토레지스트를 국내 최초로 개발·생산했다.
포토레지스트는 감광재로 반도체의 노광 공정 단계에서 웨이퍼 기판에 패턴을 형성하기 위해 반드시 사용된다. 반응하는 빛의 파장에 따라 불화크립톤(KrF, 248나노), 불화아르곤(ArF, 193나노), 극자외선(EUV, 13.5나노)용으로 구분된다. 반응하는 빛의 파장이 짧을수록 공정 미세화가 가능하다.
포토레지스트는 그간 일본 수입에 의존해 왔다. 일본 수출규제 이후 대일 수입 의존도를 낮춰 공급안정성을 빠르게 확보해 나가고 있다. 무역협회에 따르면 포토레지스트 일본 수입비중은 올해 상반기에 92%를 기록했다. 7월부터 11월까지 누적 비중은 85%로 떨어졌다.
벨기에(RMQC), 미국(듀폰), 독일(머크) 등 일본 외 국가로 수입국을 다변화하고 있다. 최근 듀폰은 EUV용 포토레지스트 개발·생산시설 등 구축을 위해 한국에 2800만달러(324억원) 투자를 확정했다.
이날 동진쎄미켐을 방문한 정승일 산업통상자원부 차관은 "금년 1분기 내 동진쎄미켐이 생산공장 증설 착공에 들어가 포토레지스트 국내 공급 안정성이 한층 더 강화될 것으로 기대한다"고 말했다.
