ACM리서치가 배치와 싱글 웨이퍼 세정 기술을 결합한 통합 세정 장치를 17일 발표했다. ACM리서치는 싱글 웨이퍼 습식 세정 장치를 개발, 제조, 판매하는 업체다.

반도체 세정 장비는 웨이퍼 처리매수에 따라 여러 장을 한꺼번에 처리하는 배치식과 한 장씩 처리하는 싱글 방식으로 나뉜다.

'울트라 씨 타호' 세정 장치는 두 개의 모듈을 하나의 습식 세정 장치로 결합했다. 배치 모듈에서 황산 혼합액(SPM) 세정이 이루어진다. 이 과정에서 사용된 화학 물질은 독립적인 배치 장치에서 재순환된다. 싱글 웨이퍼 SPM 세정과 비교해서 황산 폐기물 양을 80% 줄일 수 있다.

개별 고객사 필요에 따라 다른 화학 물질들을 배치할 수 있다. 본 장치는 최대 4개 암(arm)을 제공한다. 각 암은 최대 3개 화학 공정을 처리할 수 있다. 패턴 웨이퍼에 적용할 수 있는 이소프로필알콜(IPA) 건조 기능도 제공한다.

고객사 생산 라인에 설치된 기존 SPM 배치 장치와 비교했을 때 웨이퍼당 30나노 크기 파티클을 수백개에서 약 10개 수준까지 줄일 수 있다. 이 시스템은 하루 2000장 웨이퍼를 처리하면서 황산 소비를 200L 이하로 줄일 수 있다. 이는 싱글 웨이퍼 세정에 비해 하루 1600L 이상 황산 폐기물을 절약한다. 

전동엽 기자 다른기사 보기