지난 19일 중국 장쑤성(江苏) 우시공장에 네델란드 반도체 장비업체 ASML의 최신 DUV(Deep UV, 심자외선) 노광장비 NXT2000i를 반입했다고 현지 언론 아이지웨이(爱集微)가 보도했다. 아이지웨이는 반입식 사진과 함께 "중국에 처음 들어온 장비"라고 전했다.
ASML는 올해 2분기 컨퍼런스콜에서 이 장비의 출하시작을 알리며 "EUV(Extreme UV, 극자외선) 장비와 함께 사용해, 5·7나노미터(nm) 로직 노드(node)에서 2.5나노미터 수준의 생산 오버레이(on-product overlay)가 가능하다"고 했다. 3분기 컨퍼런스콜에서는 "제품 판매에 의미있는 진전을 이뤘다"며 "로직 7나노미터와 첨단(advanced) D램 노드 양산에 활용될 것"이라고 했다.
NXT2000i의 오버레이(overlay)는 EUV장비인 NXE3400B와 같은 스팩으로 EUV장비와의 혼합사용(mix-and-match)에 최적이라는게 ASML측 설명이다.
오버레이는 층간 정렬오차를 말한다. 노광장비는 노광스탭(step)에서 한장의 웨이퍼 각 구역마다 여러 번 패턴을 그리고 에칭·증착 등 스탭을 거쳐 다시 새로운 스테이지(stage)마다 층을 올려 다른 패턴을 전사(轉寫)하게 되는데, 이때 그 전 패턴의 자리에 정렬할 수 있어야 한다. 수율과 직결된 수치다.
중국 언론 MIT과기평론(科技评论)에 따르면, ASML 중국 총괄 션보(沈波)는 지난 9월 중국 우시(无锡)시에서 열린 반도체 컨퍼런스 '중국집적회로제조연회(CICD) 2018'에서 "NXT2000i 장비가 곧 중국에 곧 들어온다"라며 "ASML이 최신 장비를 중국에 팔고 있지 않다는 소문은 사실이 아니"라고 말했다
