시간당 웨이퍼 처리량 대폭 향상 성과
반도체 디스플레이 제조 장비업체 세메스는 21일 자사 반도체 매엽식 습식 세정설비 로터스(LOTUS)가 산업기술상 IR52 장영실상을 수상했다고 이날 밝혔다.
장영실상은 산업계 연구성과를 발굴, 독려하기 위해 과학기술정보통신부(주최)와 산업기술진흥협회(주관)가 1991년 제정했다. 1년 52주 매주 한 개 제품씩 시상한다. 그 대문에 'IR52(Industrial Research, 52주)'라는 단어가 상 명칭 앞에 붙었다.
세메스 로터스는 반도체 클린공정에서 웨이퍼 표면 박막물질이나 불순물(파티클)을 제거하는 장비다. 케미컬 식각(Tech), 박리(Strip) 공정 후 활용된다. 상을 받은 로터스는 세계 최초로 19나노미터(nm) 미세공정용 설비로 개발됐다. 기존 대비 불순물 제거능력이 향상됐고 챔버수를 8개에서 12개로 늘려 시간당 웨이퍼 처리속도 및 용량을 500장 이상으로 대폭 늘렸다.
김용식 세메스 대표는 "세계시장 점유율 1위를 목표로 개발된 로터스 설비가 이 상을 받게 돼 매우 뜻깊게 생각한다"면서 "향후 반도체 장비 시장에서 설비 성능 향상 뿐 아니라 디자인 측면에서도 우수한 신개념 설비를 계속 선보일 예정"이라고 말했다.
지난해 업계 최초로 매출 2조원을 돌파한 세메스는 반도체, 디스플레이 전공정 핵심장비를 개발해 2025년 글로벌 톱5 장비 업체 진입을 목표로 삼고 있다.
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