삼성전자, EUV 기반 5나노 공정 개발 성공
삼성전자, EUV 기반 5나노 공정 개발 성공
  • 이예영 기자
  • 승인 2019.04.16 11:23
  • 댓글 0
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5나노 공정으로 초미세 공정 기술 선도
7나노 이달 출하, 6나노 올해 양산 시작
MPW∙SAFE로 국내 시스템 반도체 생태계 강화
화성캠퍼스 EUV 라인 전경
화성캠퍼스 EUV 라인 전경

삼성전자가 극자외선(EUV) 기술로 5나노 공정 개발에 성공했다. 7나노 제품은 이달 출하, 6나노 제품은 설계를 완료해 올해 안에 양산한다. 초미세 공정에서 기술 리더십을 강화하겠다는 것이 삼성전자의 전략이다.

삼성전자는 16일 EUV 기술 기반 5나노 공정을 개발했다고 밝혔다. 차세대 5나노 공정은 셀 설계를 최적화해 기존 7나노 공정 대비 로직 면적을 25% 줄였다. 20% 향상된 전력 효율 또는 10% 향상된 성능을 제공한다. 특히 7나노 공정에 적용된 설계 자산(IP:Intellectual Property)을 활용할 수 있어 기존 7나노 공정 고객은 5나노 설계비용을 줄일 수 있다.

삼성전자는 7나노와 6나노 양산도 본격화하고 있다.

올해 초 업계 최초로 EUV 공정 기반 7나노 제품 양산을 시작했다. 이달 중 본격 출하할 계획이다. 6나노 제품은 대형 고객과 생산 협의를 진행 중이다. 제품 설계가 완료돼 올해 하반기 양산할 예정이다.

이번 초미세 공정은 EUV 기술을 기반으로 한다. EUV 기술은 기존 불화아르곤(ArF)보다 파장의 길이가 짧은 EUV 광원을 사용해 보다 세밀한 반도체 회로를 구현할 수 있다. 회로를 새기는 반복 작업인 멀티 패터닝(Multi-Patterning) 공정을 줄여 성능과 수율을 높인다.

삼성전자는 초미세 공정 포트폴리오를 확대해 파운드리 기술 리더십과 4차 산업혁명을 이끌 시스템 반도체 사업 경쟁력을 강화할 방침이다. 첨단공정 역량 제고로 국내 반도체 생태계 발전과 시스템 반도체 산업 육성에도 큰 도움을 줄 것으로 기대된다.

삼성전자는 멀티 프로젝트 웨이퍼(MPW)와 에코시스템(SAFE)도 지원한다. 초미세 공정 핵심기술로 국내 시스템반도체 생태계를 강화하고 역량을 제고시킬 계획이다.

파운드리 사업은 반도체 장비, 소재, 디자인, 패키징, 테스트 등 다양한 전문 업체들이 함께 성장해야 하므로 전후방 연관 효과가 크다. MPW는 1장의 웨이퍼에 여러 종류의 반도체 제품을 생산하는 서비스다. 삼성전자는 MPW 서비스를 5나노 공정까지 확대 제공해 고객이 보다 편리하게 최첨단 반도체를 제작할 수 있도록 한다.

SAFE TM(Samsung Advanced Foundry Ecosystem)은 삼성전자 파운드리 지원 프로그램이다. 설계 자산(IP) 외에도 공정 설계 키트(PDK, Process Design Kit), 설계 방법론(DM, Design Methodologies), 자동화 설계 툴(EDA, Electronic Design Automation) 등 5나노 공정 기반 제품 설계를 돕는 디자인 인프라를 제공한다. 이 프로그램으로 팹리스 고객은 보다 쉽고 빠르게 제품을 설계하고 신제품 출시 시기도 앞당길 수 있다.

삼성전자는 최신 파운드리 생산시설인 화성캠퍼스 S3 라인에서 EUV 기반 최첨단 공정 제품을 생산하고 있다. 현재 건설 중인 화성캠퍼스 EUV 전용 라인을 내년 본격 가동해 고객과 시장 요구에 대응할 계획이다.

배영창 삼성전자 파운드리사업부 전략마케팅팀 부사장은 "삼성전자의 EUV 기반 최첨단 공정은 성능과 IP 등에서 다양한 강점을 가지고 있어 5G, AI, 전장 등 신규 응용처를 중심으로 높은 수요가 예상된다"며 "향후 첨단 공정 솔루션으로 미래 시스템 반도체 산업을 이끌어 나갈 것"이라고 밝혔다.


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