세프라텍, 반도체 공업용수 탈기막 국산화 국책과제 선정
세프라텍, 반도체 공업용수 탈기막 국산화 국책과제 선정
  • 이나리 기자
  • 승인 2021.04.22 17:42
  • 댓글 0
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초저농도 용존산소(DO) 제거용 탈기막 개발

멤브레인 전문업체 세프라텍은 초저농도 용존산소(DO) 제거용 탈기막(MDG) 국산화 기술개발사업에 선정됐다고 22일 밝혔다. 세프라텍은 이번 기술개발 사업을 통해 현재 글로벌 M사가 독점 공급하고 있는 기술을 국산화할 계획이다. 

세프라텍 관계자는 "당사는 분리막 전문 기술기업으로 기존 탈기 공정 대비 용존 기체 제거 효율이 높은 멤브레인 콘텍터 기술을 보유하고 있다"며 "이번 사업을 통해 반도체, 바이오 등에서 수요가 증가하고 있는 고순도 공업용수 시장에서 소재 국산화의 기반을 다질 것"이라고 말했다. 

일반적으로 물에는 질소, 산소, 이산화탄소 등의 기체가 용존 상태로 존재한다. 반도체 공정, 바이오 등과 같이 고도의 청정함을 요구하는 산업에서는 용존 기체를 제거한 고순도 공업용수가 사용된다. 고순도 공업용수는 순도 확보를 위해 여러 단계의 공정을 거치게 되며, 이 중 탈기막은 초순수 처리 공정 내 용존 기체를 제거하는 역할을 한다. 

탈기막 기술 개발의 전체 사업비는 약 18억원이다. 그 중 14억원은 정부에서 출연한다. 기술개발 사업은 1, 2 단계 모두 합해 총 45개월간 진행되며 1단계 사업 종료 후 평가를 통해 2단계 사업 진행 여부를 결정한다. 1단계(정부지원금 9.5억, 민간부담금 약 3.3억)는 2021년 4월부터 2022년 12월까지, 2단계는 2023년 1월부터 2024년 12월까지다. 

 



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