징루이, 쑤저우에서 노광장비 반입식 열어
징루이, 쑤저우에서 노광장비 반입식 열어
  • 디일렉
  • 승인 2021.02.22 11:20
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| 출처 : 상해증권보 | 1월 20일

○징루이, EUV 노광장비 반입··· ArF 포토레지스트 개발속도 UP
- 19일 오전, 쑤저우 나노기술산업단지에서 징루이(Jingrui, 晶瑞股份)가 노광장비 반입식을 열었음.
- ArF 포토레지스트 연구개발을 위해 ASML XT 1900Gi EUV 노광장비를 샀다고 함.
- 노광장비 구입 및 반입까지 4개월이 채 걸리지 않았음.   
- 징루이는 지난해 9월 29일 반도체용 포토레지스트 R&D 프로젝트 전개를 위해 ASML 노광장비 구입에 1102만 5000달러를 투자한다고 공시한 바 있음.
- 우톈수(吴天舒) 징루이 회장은 “반도체 소재난 해결을 위해 ArF 포토레지스트 연구개발을 가속화하고 R&D 플랫폼을 설립했다”며 “앞으로 관련 장비를 추가 구입해 최대한 빠일 시일 내 세팅을 마치고 생산에 투입할 것”이라고 말했음.   
  
○징루이, 365nm 포토레지스트 납품 중, KrF 포토레지스트 고객사 테스트 단계 
- 징루이는 포토레지스트 분야 업력 28년.

- 1993년 자회사 쑤저우루이훙(苏州瑞红)이 포토레지스트 연구개발에 착수, 국가중대과학기술프로젝트 02프로젝트 ‘365nm 포토레지스트 제품 개발·생산 프로젝트’를 수행했음.
- 현재 징루이의 365nm 포토레지스트는 주요 반도체 업체들에 납품 중이며, KrF 포토레지스트는 고객사 테스트 단계 진입한 상태.
- 반도체가 나노급으로 발전함에 따라 포토레지스트의 파장이 자외선 스펙트럼에서 g라인(436nm), i라인(365nm), KrF(248nm), ArF(193nm), ArF 이머전 및 최첨단 EUV(<13.5nm) 라인 수준까지 단축되어왔음.  
- 포토레지스트 파장이 짧을 수록 개발 난이도가 높고 더 선단기술에 해당함.
- 현재 KrF와 ArF의 시장점유율이 가장 큼.

○3년 안에 ArF 포토레지스트 제품 대량생산 실현할 것
- “중국은 반도체 실력은 크게 발전했지만 포토레지스트 기술 수준이 걸림돌로 작용” 
- 6인치 웨이퍼에 적용되는 436nm, 365nm 포토레지스트의 자급률은 약 10%, 8인치용 KrF 포토레지스트 자급률은 5%에 못 미치며 12인치용 ArF 포토레지스트는 아예 수입에 의존하는 실정. 포토레지스트 국산화는 아직 갈 길이 멀다고 할 수 있음.
- 우톈수 징루이 회장은 “이번에 구입한 노광장비는 상반기 세팅 마칠 예정이고, 3년 안에 ArF 포토레지스트 제품 대량생산할 것으로 기대 중”이라며 
- ArF 포토레지스트 산업화를 실현하면 중국의 포토레지스트는 45nm~28nm 공정 기술 요구는 기본적으로 충족하게 될 것이라고 밝혔음.

 



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